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纯水
半导体、液晶面板超纯水

    
 
       在半导体、液晶面板产品制造过程中,由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性,对其配套设施提出了很高的要求,超纯水水质是在现有的工业生产中水质要求最高的。

       在半导体产品生产中,水中的有机物会降低栅氧化层材料的致密性,溶解氧会氧化硅片表面,颗粒会导致栅氧化膜厚度不均、产品图形发生缺陷,金属离子会使产品结晶不良、栅氧化膜的绝缘耐压机能变坏,细菌的繁殖使它成为有机物和微粒的起源地。在液晶面板生产中,水中的碱金属会使绝缘膜耐压不良,重金属会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素会使P型触摸屏特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷会使触摸屏上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒和细菌如吸附在触摸屏表面,就会引起产品特性变差。

       根据半导体及面板行业的生产工艺要求,半导体及面板生产过程的超纯水水质必须满足《ASTM D 5127-07》类型E-1.2中的相关指标。


      半导体及面板行业用超纯水常用工艺为:
    

 
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